近日,化学化工学院硕士研究生王一庆为第一作者,于锋副教授、吉俊懿副教授和郭旭虹教授为通讯作者的学术论文《N-Doping of plasma exfoliated graphene oxide via dielectric barrier discharge plasma treatment for the oxygen reduction reaction》在国际Top期刊《Journal of Materials Chemistry A》(简称JMCA)上发表内封底论文(Inside back cover paper)。JMCA是英国皇家化学学会(RSC)旗下具有高影响力的国际刊物,2017年影响因子(IF)为9.931。


    该项工作主要是利用低温等离子体技术制备出了氮掺杂氧化石墨烯(N-PEGO)。低温等离子体技术制备N-PEGO过程简单易操作,过程中采用碳酸铵作为活化剂和氮源,一步即可实现氧化石墨烯的有效剥离和氮掺杂。采用该方法制备N-PEGO,氮的掺杂量可达到5.3 at.%,比表面积达到380.0 m2/g,起始电位达到0.89 V(vs RHE),具有优异的氧还原反应(ORR)催化活性,稳定性和抗甲醇性能也都优于商业贵金属铂碳催化剂。


    (通讯员:张洁)